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(Pb1-xSrx)TiO3系鐵電薄膜的極化反轉(zhuǎn)特性

時間:2023-04-26 22:05:08 數(shù)理化學論文 我要投稿
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(Pb1-xSrx)TiO3系鐵電薄膜的極化反轉(zhuǎn)特性

采用磁控濺射技術(shù)在Si基底上制備了(Pb1-xSrx)TiO3(簡稱PST)鐵電薄膜,采用雙極性、雙脈沖方波電壓測試了其極化反轉(zhuǎn)特性.測試結(jié)果表明,所制備的PST鐵電薄膜的電流密度峰值達10-4A/mm2量級,開關時間可達1.0 ms左右,極化反轉(zhuǎn)特性較好,有望未來在Si基集成單片紅外探測焦平面陣列研制中加以應用.

作 者: 鐘銳 王茂祥 簡余良 穆志純 ZHONG Rui WANG Maoxiang JIAN Yuliang MU Zhichun   作者單位:   刊 名: 固體電子學研究與進展  ISTIC PKU 英文刊名: RESEARCH & PROGRESS OF SOLID STATE ELECTRONICS  年,卷(期): 2008 28(3)  分類號: O484  關鍵詞: 鈦酸鍶鉛   鐵電薄膜   磁控濺射   極化反轉(zhuǎn)  

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