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利用紫外光電子能譜-質譜研究CF3自由基的大氣光化學反應

時間:2023-04-30 13:08:49 數理化學論文 我要投稿
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利用紫外光電子能譜-質譜研究CF3自由基的大氣光化學反應

利用建立的光化學反應裝置和自行研制的紫外光電子能譜-光電離質譜(PES-PIMS), 對CF3自由基與O2和CO的光化學反應進行了研究. 對不穩(wěn)定物種CF3OC(O)OOC(O)OCF3的電子結構以及電離解離的機理進行了分析研究. 結果表明, CF3OC(O)OOC(O)OCF3的光電子能譜上出現的兩個譜帶分別來源于氧原子的孤對電子和CF3基團上F原子的孤對電子的電離, 其中前者比后者更容易電離. 實驗得到CF3OC(O)OOC(O)OCF3的第一垂直電離能為13.21 eV, 而利用OVGF方法得到的計算值為 13.178 eV, 二者吻合很好. 結合光電離質譜, 發(fā)現在HeI紫外光輻射下, CF3OC(O)OOC(O)OCF3發(fā)生一次電離后, 母體離子通過C-O鍵的斷裂發(fā)生異裂, 隨后形成碎片離子CF3OCO+和CF3+. 研究表明, 結合光化學反應裝置的紫外光電子能譜-光電離質譜有望在瞬態(tài)物種的大氣光化學反應研究中得到廣泛應用.

利用紫外光電子能譜-質譜研究CF3自由基的大氣光化學反應

作 者: 姚立 杜林 殷實 葛茂發(fā)   作者單位: 姚立,杜林,殷實(中國科學院化學研究所,北京分子科學國家實驗室,分子動態(tài)與穩(wěn)態(tài)結構國家重點實驗室,北京,100080;中國科學院研究生院,北京,100039)

葛茂發(fā)(中國科學院化學研究所,北京分子科學國家實驗室,分子動態(tài)與穩(wěn)態(tài)結構國家重點實驗室,北京,100080) 

刊 名: 中國科學B輯  ISTIC PKU 英文刊名: SCIENCE IN CHINA(SERIES B)  年,卷(期): 2007 37(6)  分類號: O6  關鍵詞: 光化學反應   CF3自由基   紫外光電子能譜-質譜儀   瞬態(tài)物種  

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